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已建立的塑料瓶的技术是什么?

作者:化工桶-塑料桶-吨桶-IBC包装桶生产厂家 浏览: 发表时间:2020-12-16 17:46:09

  因此,某些原子层每分钟的生长速率可以通过比较与传统工艺的每秒几个原子层的生长速率而获得该工艺的种变是采用与上面所描述的相同的方法,但是不采用会产生多晶薄膜取向或者结晶的基体材料。这种方法被命名为原子层沉积这已经被用来沉积层的应用在平板显示器的薄膜学東外延附生和金属分子束外延附生  和   学束外延附生也叫金属分子束外延附生是半导体技术中的主要薄膜技术。学束外延附生结合了分子束外廷附生的束流质参见节和 的优点。与 相比,薄膜生长在真空,背景压力  箱里完成,反应用原材料通过反应气体典型的束压约为的分子束输送到沉积区域。分子束流是气体原材料喷射出的射流。在这种低压下,质量传输通过在气相中不发生相互碰撞的分子流动进行,而且面动力学是导致薄膜生长反应的的原因,当通过增加系统的压力把条件转成 条件时,可能出现另外的生长控制步骤。这个过程可以通过与横向和纵向扩散有关的气相流体动力学来控制。在中,其前驱体生率通常要比 的高。相对于 的另外个重要优点是真空环境,该环境应用允许原位面征技术。这些技术即,反射高能电子衍射 技术可被用于研究原位生长过程,也能够在同样的真空条件下研究结构、形貌和新鲜生长面、界面和薄层的电子质,中采用的低压允许选择区域外廷附生塑料瓶这种技术已经运用于族和族元素的材料,中的薄膜沉积在没有被氧物或氮物层的面区域。和的主要缺点是真空设备的成本非常高沉积速率和生产量也非常低等离子体增强学气相沉积    , 等离子体增强学气相沉积 也叫做等离子体辅助学气相沉积。

  塑料瓶是传统的种改进方法,制备的过程在等离子体中产生反应物,工作压力通常在的范围内。高能电子和气相前驱体间的非弹碰撞产态的中粒子、基以及离子和另外的电子。在等离子体中,典型的电离度仅为,因此反应器中的气体分由中粒子组成,活反应物质发生反应的能垒比原来反应物的低,因此,能在较低的反应温度进行反应,这是 相对于热驱动的的主要优点,同时具有潜在的高生长速率。 是已建立的低温沉积的商业用技术,用来沉积许多重要的材料,尤其是缘薄膜,例如,氮硅和氧硅。缺乏基体选择;沉积薄膜较差的保形;等离子体引起的基体损坏和其工艺的复杂是 的缺点。远程等高子体增强学气相沉积   , 在远程等离子体增强学气相沉积 中等离子体发区域与生长区域是分开的,这与前面所述的基体是直接暴露在等离子弧中的 和等离子溅射  是相反的参见节。

  减小了基体和膜层受等离子体损害的可能,但是,该工艺是种复杂的工艺而且正在开发中。塑料瓶通过从等离子体中获得的长寿命发物质与下游从等离子体区域注入的前驱体气体分子间的多种气相碰撞实现传输,传输产生在与生长面反应前仍然是电子发态的前驱体在 中的发态分子有着更低的势垒,有利于薄膜的沉积这允许使用在普通工艺条件下不能形成薄膜的更复杂的前驱体光辅助学气相沉积 。


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